Bachelorarbeit / Masterarbeit / Diplomarbeit
Herstellung und Untersuchung von dünnen Oxidschichten durch Ionenstrahlsputtern in der Nanoelektronik (Id 415)
**Aufgaben:**
1. Entwicklung von Dünnfilm-Oxiden mittels Ion Beam Sputtering für Nanoelektronik-
Anwendungen
2. Optimierung der Prozessparameter für die kontrollierte Herstellung dünner Oxidschichten
3. Charakterisierung der synthetisierten dünnen Oxidfilme
4. Bewertung der elektronischen, strukturellen und mechanischen Eigenschaften der hergestellten
Oxidfilme.
5. Anwendung von Dünnfilm-Oxiden in spezifischen Nanoelektronik-Anwendungen und
Leistungsvergleich mit herkömmlichen Materialien
Abteilung: Nanomaterialien und Transport
Kontakt: Zscharschuch, Jens, Dr. Garcia Valenzuela, Aurelio
Voraussetzungen
**Anforderungen:**
1. Immatrikulation im Masterstudium der Materialwissenschaften, Chemie, Physik oder einem
verwandten Studiengang
2. Interesse an Dünnfilmtechniken und der Nanoelektronik
3. Grundkenntnisse in der Herstellung und Charakterisierung von dünnen Schichten
4. Experimentelle Fähigkeiten im Umgang mit Labortechniken
5. Selbstständige Arbeitsweise und Teamfähigkeit
Rahmenbedingungen
**Wir bieten:**
1. Ein innovatives Forschungsumfeld mit Zugang zu modernster Laboreinrichtungen
2. Betreuung durch erfahrene Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftler
3. Die Möglichkeit, an Konferenzen teilzunehmen
4. Praxisnahe Erfahrungen im Bereich der Dünnfilmbeschichtung und Nanoelektronik
Die Masterarbeit hat eine Laufzeit von sechs Monaten. Eine Verlängerung oder Anpassung der
Laufzeit kann in Absprache mit dem Betreuer erfolgen.
Interessierte Studierende werden gebeten, ihre Bewerbungsunterlagen inklusive Lebenslauf, letztes
Studienzeugnis und Motivationsschreiben einzureichen.
Online-Bewerbung
Bitte bewerben Sie sich online: https://www.hzdr.de/Angebot415