Ionenimplantation und Unterstützung von PVD Prozessen mit energetischen Ionen als innovativer Technologiefortschritt
Ionenimplantation und Unterstützung von PVD Prozessen mit energetischen Ionen als innovativer Technologiefortschritt
Kolitsch, A.
Abstract
Die simultane Kombination verschiedener Ionenenergien mittels Plasma Immersions Ionenimplantation und reaktivem Magnetronsputtern zur Herstellung extrem glatter, superharter und haftfester tribologischer Schichten für Hochtechnologieanwendungen wird beschrieben
Keywords: PBII; PIII; TiN; cBN; PVD; super hard coatings
Beteiligte Forschungsanlagen
- Ionenstrahlzentrum DOI: 10.17815/jlsrf-3-159
Verknüpfte Publikationen
- DOI: 10.17815/jlsrf-3-159 is cited by this (Id 15639) publication
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Eingeladener Vortrag (Konferenzbeitrag)
Oberflächenmodifikation von Werkstoffen, 13.05.2011, Zittau, Deutschland
Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-15639