Verfahren zur Herstellung von Monolagen aus Silizium-Nanoclustern in Siliziumdioxid
Verfahren zur Herstellung von Monolagen aus Silizium-Nanoclustern in Siliziumdioxid
Schmidt, B.; Heinig, K.-H.
Abstract
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen, das die Erzeugung von Nanoclustern zur Ladungsträgerspeicherung im Siliziumdioxid in konkretem Abstand von der Siliziumdioxid/Silizium-Grenzfläche mit idealerweise unimodaler Größenvertei-lung, und in einer Monolage angeordnet, erlaubt, ohne daß von außen zusätzliche Stoffe in die Siliziumdioxid-Schicht eingebracht werden müssen.
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Patent
EPA 00114817.0 -
Patent
DE 199 33 632 A1 -
Patent
EP 1 070 768 A1
Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-2979