Atomistische Simulation der Ionenimplantation und ihre Anwendung in der Si-Technologie
Atomistische Simulation der Ionenimplantation und ihre Anwendung in der Si-Technologie
Posselt, M.
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Vortrag (Konferenzbeitrag)
Institut für Physik der Universität Augsburg, January 28,1999
Permalink: https://www.hzdr.de/publications/Publ-3154